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「第156回ラドテック研究会講演会」のお知らせ

2018.04.02

「第156回ラドテック研究会講演会」をご案内いたします。今回も4本の講演が予定されています。

 

日時: 2018年4月26日(木)13:00〜17:00

会場:東京理科大学神楽坂キャンパス1号館17階/記念講堂

 

プログラムは下記のとおりです。

 

(1)13:00〜13:50

「反応現像を鍵とするエンプラ等の汎用的画像形成法の開発」

横浜国立大学 大山俊幸氏

現像時におけるポリマーと現像液との反応を鍵とする微細パターン形成法である反応現像画像形成法(RDP)について紹介する。RDPの利用により、市販エンプラを含む広範なポリマーについてフォトリソグラフィープロセスによるポジ型およびネガ型微細パターン形成が実現される。

 

(2)13:50〜14:40

「光反応を利用した機能性高分子合成」

神戸大学大学院 北山雄己哉氏

本講演では、我々が最近見出した光反応性高分子微粒子に対する界面選択的光架橋現象および本現象を応用した様々な構造・機能を有する高分子微粒子創出について発表する。

 

14:40〜15:00 コーヒーブレイク

 

(3) 15:00〜15:50

「半導体用フォトレジスト開発の現状と今後」

東京応化工業株式会社 平野智之氏

半導体製造に用いられるフォトレジスト材料は露光光源の短波長化に伴って大きく変遷してきた。本講ではフォトレジストに求められる特性と材料設計を中心に解説するとともに、最先端のフォトレジスト用材料に関しても紹介する。

 

(4) 15:50〜16:40

「自己剥離テープ「セルファ」の開発」

積水化学工業株式会社 畠井宗宏氏

半導体工程用材料として、非常にユニークな自己剥離技術を使った「セルファ」を開発した。テープにUVを照射するとガスを発生することにより、自ら剥離する応力を発生し、剥離が困難とされる剛体同士の剥離を可能にした。

 

◆17:00〜18:30

交流会・ミニ展示会(参加費無料) 大会議室にて(講演会場の隣の部屋です)

※ 岩崎電気とアイ・エレクトロンビームは、EB技術の紹介をいたします。

 



「第155回ラドテック研究会講演会」のご案内

2017.11.24

ラドテック研究会主催の講演会の案内です。今回は4本の講演が予定されております。聴講の申し込みなど、詳しいことはラドテック研究会にお問い合わせください。

  

「第155回ラドテック研究会講演会」

 

日時: 2018年1月25日(木)13:00〜17:00

会場: 東京理科大学神楽坂キャンパス1号館17階/記念講堂)

 

13:00〜13:50

「安全で衛生的な床面の管理 – UVフロアコートの有用性と効果の検証」

東京都健康長寿医療センター 野田 義博 氏

UV フロアコートは表面を長期間平滑に保ち、滑りにくい性質を有する。そして、日々の歩行や清掃作業での摩耗、消毒液等の薬品による変質から床材を保護することができる理想的な床面を実現する。我々はその効果を検証した。

 

13:50〜14:40

「分子の気持ちで考える自己組織化 - 高分子材料における構造と特性相関」

熊本大学 國武 雅司 氏

“分子の気持ちで考える“をキーワードに、高分子材料化学における自己組織化を紹介する。超分子などボトムアップ志向のナノテクだけでなく、リソグラフィに代表されるトップダウン型のナノテクにおいても「意図せず生じる構造」「見えていない構造」を生む駆動力として自己組織化は重要である。

 

14:40 〜 15:00

♪♪♪♪♪ コーヒーブレイク ♪♪♪♪♪

 

15:00〜15:50

「高充填ナノ粒子コーティング」

スリーエムジャパン株式会社 杉山 直大 氏

SiO2ナノ粒子をコーティング層に充填すると耐擦傷性が向上するものの、70wt% 以上で白化し耐擦傷性が低下する課題があった。本発表では70-85wt%のSiO2を含有し高透明性を実現した高充填ナノ粒子コーティングの耐擦傷性および光学特性について報告する。

 

15:50〜16:40

「UV-LEDに対応した光硬化材料」

東亞合成株式会社 大房 一樹 氏

UV硬化時の光源として、コンパクトで低ランニングコストなUV-LEDが注目されているが、硬化性が従来の高圧水銀ランプ等よりも劣る問題がある。UV-LEDに対応するため、従来品よりも硬化性に優れた光硬化材料を新たに開発したので紹介する。

 

以上



放射線と産業 141号 発刊のお知らせ

2016.12.12

放射線利用振興協会から放射線と産業の最新号が発刊されました。

 

今回の特集は、『水素社会の実現に向けた放射線利用研究の新しい芽』と題して、

 

★低エネルギーイオンドーピングによるカーボンアロイ形成とその吸着脱硫への応用

 

★熱化学水素製造ISプロセスに向けた陽イオン交換膜の開発

 

等々の記事が掲載されております。

 

 

また、表紙の見開きに当社の小型EB装置の広告が掲載されております。

 

ご興味のある方はご確認ください。



 

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